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  • [논문 Review] Vt variation(mismatch)에 따른 Parametric 불량 2025.04.05 2
  • IDDQ Testing 및 판정 기준 2025.04.01
  • PDN 개선을 위한 On-Chip Decoupling Capacitor 2025.03.30
  • 온도에 따른 FinFET, GAAFET 특성 변화 2025.03.10
  • TSV Defect 종류 및 형성 메커니즘 - Background 2025.03.02
  • [논문 Review] CMOS 소비 전력 구분 및 특징 2025.02.23
  • Gate Cut Last 공정 및 Gate extension scaling 효과 2025.02.16
  • Design For Test (DFT) Scan Fault 유형 2025.01.31
  • Gate-All-Around (GAA) 구조에서의 Body Effect 및 SS 특성 2025.01.30
  • 아날로그 회로에서의 Deep N Well 2025.01.27
  • [논문 Review] Gate to S/D Overlap Capacitance 영향 2024.11.24
  • Single, Double Diffusion Break(SDB, DDB) 공정의 FinFET 소자에서의 기술 발전 2024.11.17
  • SiGe Channel 및 Stress에 따른 PMOS 소자 특성 변화 2024.11.03
  • Parasitic Capacitance 종류 및 형성 과정 2024.10.06
  • [논문 Review] PBTI/NBTI에 따른 SRAM Vmin (최소 동작 전압) 변화 2024.09.30 1
  • [논문 Review] FinFET Fin Scaling에 따른 소자 특성 변화 2024.09.29
  • Logic 3nm 이하 CMOS 공정 기술 2024.09.22 1
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